Fujifilm Fujinon XF 16-55mm f/2.8 R LM WR

Fujifilm Fujinon XF 16-55mm f/2.8 R LM WR

Špičkový základný profesionálny objektív Fujifilm Fujinon XF 16-55mm f/2.8 R LM WR je iba druhým profesionálnym transfokátorom (zoom objektívom) s vysokou konštantnou svetelnosťou f/2.8 v celom rozsahu ohniskových vzdialeností v ponuke firmy Fujifilm. Objektív sa vyznačuje prvotriednou optickou sústavou vsadenou do robustného utesneného tela z horčíkových zliatin. Objektív tak tvorí v kombinácii s kompaktným systémovým fotoaparátom Fujifilm FinePix X-T1 voči stekajúcej vode a prachu dokonale utesnenú zostavu, ktorá spoľahlivo a rýchlo zaostrí aj v zhoršených svetelných podmienkach. Tento transfokačný objektív je určený pre použitie s kompaktnými systémovými fotoaparátmi Fujifilm FinePix rady X, vybavenými veľkými X-Trans CMOS snímačmi formátu APS-C na ktorých ohniskový rozsah objektívu 16-55mm zodpovedá po prepočte kinofilmovému rozsahu 24-82,5mm (3,44x zoom). Samotné telo objektívu je skutočne mimoriadne precízne a kvalitne spracované, bez mechanických vôlí, alebo iných nedokonalostí. V utesnenom kovovom tele priemeru 83,3mm a dĺžky 106,0mm je optická sústava precízne vyrobená z kvalitného optického skla.

Optická sústava a použitie objektívu:
Samotná optická sústava objektívu je zložená z 17-tich šošoviek zoradených do 12-tich skupín z toho sú tri šošovky vyrobené z extra nízko rozptylového skla ED a ďalšie tri optické prvky sú asféricky tvarované šošovky. Tieto špeciálne optické členy výrazne potláčajú chromatickú aberáciu, zlepšujú prenos kontrastu, výslednú ostrosť a eliminujú svojim asférickým zakrivením deformácie obrazu na krajoch obrazového poľa. Optická sústava dokáže zaostrovať v rozsahu od 60cm až do nekonečna (v makro režime je to dokonca od 0,3m do 10m pri ohniskovej vzdialenosti 16mm, alebo od 0,4m do 10m pri ohniskovej vzdialenosti 55mm), disponuje rozsahom uhlov záberu od 83,2° - 29° a reprodukčným pomerom 0,16x. Všetky šošovky a optické členy objektívu sú vyrobené z prvotriedneho optického skla, sú dokonale vyleštené a na celom povrchu opatrené unikátnou povrchovou úpravou HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating). Povrchová úprava HT-EBC spoločnosti Fujifilm obmedzuje zdvojenie obrazu a vznik odleskov čoho výsledkom je jasný, kontrastný a ostrý obraz. Na povrch šošoviek a optických členov objektívu je povrchová úprava nanášaná technológiou Nano-GI (Gradient Index), ktorá mení index lomu svetla medzi sklom a vzduchom čím účinne potláča zdvojenie a odlesky obrazu vytvárané dokonca aj od svetla dopadajúceho na povrch šošoviek pod šikmým uhlom. Objektív vyniká najmä svojou s vysokou konštantnou svetelnosťou v celom rozsahu ohniskových vzdialeností vďaka čomu môžete z ruky udržať aj dlhšie expozičné časy. Pre dosiahnutie dokonalého rozostrenia obrazu v pozadí (bokeh) za zaostreným hlavným motívom je konštrukcia clony založená na 9 lamelovej tvarovanej elektromagnetickej clone. Tú je možné nastavovať aj manuálne pomocou clonového prstenca na vonkajšom tubuse objektívu v rozsahu od f/2.8 až po f/22 po tretinových expozičných krokoch. Tento univerzálny základný objektív je vhodný na reportáže, krajinársku a architektonickú fotografiu, ale nájde si svoje miesto aj v brašniach profesionálnych fotografov.

Rýchle a tiché automatické zaostrovanie vďaka trojitému lineárnemu motoru:
Výkonnej optickej sústave sekunduje nemenej výkonný systém automatického zaostrovania, ktorý sa opiera o vysokorýchlostný trojitý lineárny motorček. Tento zaostrovací motorček tvorený tromi lineárnymi motorčekmi osadenými okolo optickej sústavy s rozostupom 120° je pri svojej práci takmer bezhlučný, mimoriadne rýchly a hlavne spoľahlivý. Samotný motorček je aktivovaný povelmi zo zaostrovacieho systému fotoaparátu, ktorý pracuje na princípe fázovej detekcie. V kombinácii s tichou uzávierkou fotoaparátu, bude vaše fotografovanie úplne diskrétne a tak nebudete na seba pútať nežiadúcu pozornosť. Zaostrovací systém vám umožní dosiahnuť mimoriadne presné zaostrenie vzhľadom na to, že objektív zaostruje pri práci automatického ostrenia priamo na rovinu snímača

Konštrukcia a odolnosť objektívu:
Objektív je určený pre profesionálne použitie čomu zodpovedá aj jeho robustná a dokonale utesnená konštrukcia. Tubusy objektívu sú precízne vyrobené z horčíkovo-hliníkových zliatin a všetky ich časti sú utesnené voči vonkajším poveternostným vplyvom, prachu a objektív je tiež schopný pracovať aj pri teplotách do -10°C. Takýto stupeň utesnenia a ochrany objektívu z neho robí ideálny objektív pre fotoaparát Fujifilm FinePix X-T1, ktorý ponúka rovnakú úroveň ochrany. Keď v ruke držíte kovové telo objektívu a otáčate dokonale vypracovaným clonovým prstencom s krokovaním po 1/3, pocítite nutkanie vyfotografovať úplne každú scénu. Fotografom hľadajúcim to najlepšie z oblasti fotografie otvára spoločnosť Fujifilm dvere do novej éry výmenných objektívov.


Parametre objektívu Fujinon XF 16-55mm f/2.8 R LM WR
• Rozsah ohniskových vzdialeností je 24 – 82,5mm (ekvivalent kinofilmu)
• Rozsah uhlov záberu je 83,2° - 29°
• 12 skupín / 17 optických členov (3 nízko rozptylových ED šošoviek a 3 asférické šošovky)
• 9 lamelová konštrukcia clony s do kruhu tvarovanými lamelami
• Rozsah clony: F2.8 - F22 v celom rozsahu ohniskových vzdialeností (krok 1/3)
• Minimálna zaostrovacia vzdialenosť: 1m až nekonečno (reprodukčný pomer: 0,12x)
• Priemer filtrov: 77 mm
• Rozmery: 83,3 mm x 109,0 mm
• Hmotnosť: cca. 655 g

Špecifikácia Fujifilm Fujinon XF 16-55mm f/2.8 R LM WR